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Projekt

Entwicklung eines hochtransparenten, UV-A/VIS belichtbaren (λ=350-450 nm) und UV-strukturierbaren Trockenfilmresistsystems mit verschiedenen Schichtdicken zur Herstellung optischer Komponenten

Im Rahmen des F&E-Vorhabens soll ein epoxidharzbasiertes, bis oberhalb von 400 nm langwellig absorbierendes und UV-empfindliches, optisch hochtransparentes Negativ-Photoresistmaterial und die Prozess- bzw. Verfahrenstechnologie für die Herstellung von konfektionierten, laminierbaren Trockenfilmresisten entwickelt werden. Die Qualitätsanforderungen an die Trockenfilme sind u.a. exzellente Schichtbildung und Schichthomogenität, geringe Schichtdickentoleranzen, gute Laminierbarkeit, hochauflösende photolithografische Prozessierbarkeit sowie eine gute Lagerstabilität bei Raumtemperatur. Die Trockenfilmresiste sollen, ausgehend von einem liquiden Basis-Material, in einem automatisierten Beschichtungsverfahren auf Folie aufgebracht, anschließend getrocknet, und in Schichtdickenvarianten von 5 µm bis 100 µm auf eine Rolle aufgewickelt werden. Die mit diesem Verfahren hergestellten Trockenfilme werden dann interessierten Kunden angeboten, die diese Trockenfilme mit gängigen Laminier-Systemen defektfrei auf unterschiedliche Substrate auftragen können.

Ein weiteres innovatives Ziel im Projekt ist die Untersuchung der photolithographischen Strukturierbarkeit des neu entwickelten Trockenfilmresists mit leistungsstarken LEDs, als auch direktschreibenden und damit maskenlosen Lasersystemen als Belichtungssysteme. Die Verwendung der zukunftsorientierten quecksilberfreien, energetisch günstigeren LEDs als Lichtquellen sowie des maskenlosen Laserdirektschreibens in den UV-Vis und UV-A Wellenlängenbereichen erfolgt progressiv zur Marktentwicklung der Tool-Hersteller für Belichtungsgeräte und ermöglicht eine die Umwelt schonende, kostengünstige und zeitsparende Strukturierung.

Dieses Projekt wird kofinanziert durch den Europäischen Fonds für regionale Entwicklung (EFRE)