Picosecond Laser Drill

Leistungsangebot:

  • Anbohren von eingebetteten Bauelementen und Leiterplatteninnenlagen. Bohrlochdurchmesser <= 30µm sind möglich.
  • Schneiden von dünnen Folien (Metalle und Kunststoffe)
  • Oberflächliches abladieren von Metallen oder Kunststoffen
  • Anbohren von eingebetteten Leistungshalbleitern für die Leistungselektronik
  • Anbohren von eingebetteten Halbleitern und passiven Bauelementen für komplexe Logikmodule
  • Schneiden von Prepregmaterialien und Kupferfolien (mit bis zu 1500mm/s Schnittgeschwindigkeit)
  • Erzeugung von Microvias mit geringem thermischem Eintrag durch ultrakurze Laserpulse.
  • Erzeugung von Durchgangslöchern in dünnen Glassubstraten für die Optoelektronik

Spezifikationen:

  • Gepulster Picosekunden Laser (200kHz – 1 MHz) mit Pulspicker
  • Maximale Substratgröße: 635 x 630 mm²
  • Maximale Substratdicke 4mm
  • 2 getrennte Strahlengänge für 1064nm (Linke Station) und 355nm (Rechte Station)
  • Hochgenaue Galvanometer Scannersysteme
  • Optische Z-Achse
  • 1064nm maximale Leistung: 50W bei 355nm: 14W
  • Strahlformungsoptionen Beam Expander und Tophat können in den Strahlengang eingeschwenkt werden
  • CCD Kamera zur Erfassung von Fiducials (Offset, Rotation, Dehn und Schrumpf)
  • Positioniergenauigkeit +/- 5µm
  • Vakuumtisch