Leistungsangebot: Anbohren von eingebetteten Bauelementen und Leiterplatteninnenlagen. Bohrlochdurchmesser <= 30µm sind möglich. Schneiden von dünnen Folien (Metalle und Kunststoffe) Oberflächliches abladieren von Metallen oder Kunststoffen Anbohren von eingebetteten Leistungshalbleitern für die Leistungselektronik Anbohren von eingebetteten Halbleitern und passiven Bauelementen für komplexe Logikmodule Schneiden von Prepregmaterialien und Kupferfolien (mit bis zu 1500mm/s Schnittgeschwindigkeit) Erzeugung von Microvias mit geringem thermischem Eintrag durch ultrakurze Laserpulse. Erzeugung von Durchgangslöchern in dünnen Glassubstraten für die Optoelektronik
Spezifikationen: Gepulster Picosekunden Laser (200kHz – 1 MHz) mit Pulspicker Maximale Substratgröße: 635 x 630 mm² Maximale Substratdicke 4mm 2 getrennte Strahlengänge für 1064nm (Linke Station) und 355nm (Rechte Station) Hochgenaue Galvanometer Scannersysteme Optische Z-Achse 1064nm maximale Leistung: 50W bei 355nm: 14W Strahlformungsoptionen Beam Expander und Tophat können in den Strahlengang eingeschwenkt werden CCD Kamera zur Erfassung von Fiducials (Offset, Rotation, Dehn und Schrumpf) Positioniergenauigkeit +/- 5µm Vakuumtisch